:: دوره 12، شماره 4 - ( زمستان 1388 ) ::
جلد 12 شماره 4 صفحات 87-77 برگشت به فهرست نسخه ها
بررسی تاثیر ضخامت فیلم دی اکسید تیتانیوم بر ساختار فتوالکترود و عملکرد سلول خورشیدی رنگینه ای
کاوه نوروزی لواسانی* ، محمدحسین بازرگان
، kavehnorozi@yahoo.com
چکیده:   (10338 مشاهده)
الکترودهای دی اکسید تیتانیوم با ضخامت های مختلف 7، 14، 28 و 36 میکرون به روش لایه گذاری غلطکی (Squeege printing) ساخته و سپس تحت عملیات حرارتی قرار داده شدند. ساختار پوشش فیلم های دی اکسید تیتانیوم توسط تصاویر میکروسکوپی الکترونی روبشی (SEM)، نشان داده شده است. آنالیز میکروسکوپ نیروی اتمی (AFM) نشان دهنده میزان افزایش زبری سطح فیلم ها با افزایش ضخامت بود و بالاترین فاکتور زبری مربعی میانگین (Root Mean Square Slope) و میزان توسعه ناحیه سطحی (فاکتور ناهمواری ها) Area Ratio) (Developed Interfacial به ترتیب برای الکترود دی اکسید تیتانیوم با ضخامت 36 میکرون، 73% و 7/23% ثبت شد. با کمک آنالیز تعیین سطح ویژه (BET)، حجم تخلخل ها با افزایش ضخامت فیلم گزارش گردید و برای بالاترین ضخامت فیلم دی اکسید تیتانیوم کل حجم تخلخل 2227/0 سانتی-متر مکعب بر گرم ثبت شد. تصاویر میکروسکوپ نوری از نمونه ها در ضخامت های مختلف پس از حساس سازی آنها در رنگینه، نشان دهنده افزایش درصد رونشینی رنگینه با افزایش ضخامت فیلم دی اکسید تیتانیوم بود. سلول های خورشیدی ساخته شده از 4 نمونه ضخامتی، تحت شدت نور 300 وات بر مترمربع قرار گرفتند. بالاترین راندمان و فاکتور گنجایش به میزان 9/3% و 68% به ترتیب برای فتوالکترود با ضخامت 14 و 7 میکرون ثبت گردید.
واژه‌های کلیدی: سلول خورشیدی رنگینه ای، جریان مداری کوتاه، جذب رنگینه، ضخامت فیلم دی اکسید تیتانیوم، ولتاژ مداری باز
متن کامل [PDF 517 kb]   (2167 دریافت)    
نوع مطالعه: پژوهشي | موضوع مقاله: مدل هاي برنامه ريزي انرژی
دریافت: 1390/9/2 | انتشار: 1388/10/25


XML   English Abstract   Print



بازنشر اطلاعات
Creative Commons License این مقاله تحت شرایط Creative Commons Attribution-NonCommercial 4.0 International License قابل بازنشر است.
دوره 12، شماره 4 - ( زمستان 1388 ) برگشت به فهرست نسخه ها